我國科學(xué)家首次獲得納米級光雕刻三維結(jié)構(gòu)

　　據(jù)央視新聞，14日夜，國際頂級學(xué)術(shù)期刊《自然》發(fā)表了我國科學(xué)家在下一代光電芯片制造領(lǐng)域的重大突破。南京大學(xué)張勇、肖敏、祝世寧領(lǐng)銜的科研團隊，發(fā)明了一種新型“非互易飛秒激光極化鐵電疇”技術(shù)，將飛秒脈沖激光聚焦于材料“鈮酸鋰”的晶體內(nèi)部，通過控制激光移動的方向，在晶體內(nèi)部形成有效電場，實現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的直寫和擦除。這一新技術(shù)，突破了傳統(tǒng)飛秒激光的光衍射極限，把光雕刻鈮酸鋰三維結(jié)構(gòu)的尺寸，從傳統(tǒng)的1微米量級(相當(dāng)于頭發(fā)絲的五十分之一)，首次縮小到納米級，達(dá)到30納米，大大提高了加工精度。